1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。
2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。
4.主要用途:
1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等,例:銀、鋁、 銅、C60、BCP......
5.應用領域:
1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產品等。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
6.小型實驗設備的理想選擇/性能滿足各種實驗需求/專業(yè)的服務確保用戶省心省力